Fotolitografía
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Fotomáscaras más grandes para High-NA EUV de 1nm
Las nuevas fuentes High-NA para fotolitografía EUV para futuros nodos de fabricación de 1nm presenta algunos retos que hay que…
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xLight, la alternativa a las fuentes LPP de ASML para EUV
La tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV) ha sido dominada por ASML, cuyo sistema LPP (Laser-Produced Plasma) constituye el estándar…
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Novedades en tecnologías de fotolitografía: Os presentamos el futuro
La fotolitografía es un proceso que hizo posible la fabricación de multitud de dispositivos, desde las PCBs hasta los chips…
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Nuevo vidrio ULE: para la fabricación de chips EUV y High-NA
La fabricación de chips semiconductores ha experimentado un avance continuo en busca de dispositivos más rápidos y eficientes. La litografía…
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Fotomáscaras (calidad en la fotolitografía)
Las fotomáscaras son elementos muy caros, algunas cuestan miles de euros, y tienen que ser muy precisas, con mínimos márgenes…
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Litografía EUV: ¿Qué es y por qué es el futuro?
La litografía EUV está en boca de muchos expertos y analistas del sector de los semiconductores. Por eso en este…
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