Tras su salida de Intel, Pat Gelsinger ha reingresado en la industria de los semiconductores como presidente ejecutivo de la junta directiva de xLight, que ha recibido una inyección de 150 millones de dólares por parte de el gobierno de Estados Unidos a través de la Ley CHIPS.
xLight se centra en un sector crítico y complejo de la fabricación de chips, la litografía de ultravioleta extremo (EUV). La empresa planea implementar una fuente de luz innovadora para las herramientas EUV, utilizando láseres de electrones libres (FELs) en lugar de las tradicionales técnicas de plasma producido por láser (LPP). Esta técnica utiliza un acelerador de partículas para generar haces de electrones de alta energía, lo que supuestamente resulta en una eficiencia diez veces superior a la tecnología actual para EUV.
Este desarrollo es de vital importancia para Estados Unidos, que busca asegurar su liderazgo tecnológico y reducir la dependencia de proveedores extranjeros, en particular de ASML (la empresa neerlandesa que domina el mercado de herramientas EUV). La litografía ha sido identificada como un cuello de botella clave para la fabricación nacional de chips, así que esta iniciativa busca solucionar esto.
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Según Gelsinger, esta es una «oportunidad única en una generación» para «revivir la Ley de Moore» y acelerar la productividad de las fábricas. Sin embargo, el camino de xLight no está exento de desafíos. La integración de sus fuentes de luz FEL con el hardware existente de ASML es un proyecto costoso y podría encontrar resistencia por parte del fabricante neerlandés. Además, la tecnología FEL aún debe demostrar su viabilidad y rendimiento para la fabricación de chips en volumen, ya que hasta ahora no pasa de pruebas en laboratorios.
La inversión de 150 millones de dólares buscar que esta tecnología se pueda implementar en el mediano y largo plazo de la mano de Pat Gelsinger y toda su experiencia en el sector como exdirectivo de Intel. Os mantendremos informados.
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