TSMC confirma que el nodo A14 no contará con la tecnología EUV High-NA

TSMC adelanta que el nodo de proceso A14 (1.4 nm) no utilizara la tecnología EUV, centrándose más en la rentabilidad que en el rendimiento.

El nodo A14 de TSMC no contará con EUV High-NA

Hace poco, TSMC anunció un nuevo nodo de proceso de 1.4 nm, que ellos denominan como A14. Durante la presentación, comentaron que este nodo servirá para crear chips cada vez más complejos, a la vez que ofrecen un mayor rendimiento y eficiencia.

Si bien otros fabricantes como Intel están sumándose a la tecnología EUV para el futuro de sus nodos, TSMC no tomara ese mismo camino. La compañía taiwanesa ha confirmado que no utilizara la tecnología EUV con su nodo A14, al no verlo totalmente necesario.

“TSMC no utilizará litografía EUV (High-NA) para modelar chips A14, cuya fabricación está prevista para comenzar en 2028. De 2 nanómetros a A14, no tenemos que usar High-NA, pero podemos mantener una complejidad similar en cuanto a los pasos de procesamiento.

En cada generación de tecnología, intentamos minimizar el número de aumentos de máscara. Esto es fundamental para ofrecer una solución rentable.”

– Kevin Zhang de TSMC

Una de las razones principales por la que ellos están saltándose el uso de esta tecnología se debería a los costes de desarrollo, por lo que utilizará la tecnología EUV de 0,33 NA, más convencional. Esto provocaría que el nodo de proceso de Intel Foundry tendría una ventaja tecnología en cuanto a sus nodos de proceso. Por ejemplo, Intel ya utiliza esta tecnología de EUV High-NA para su nodo Intel 18A.

Si bien el nodo A14 de TSMC no contaría con EUV High-NA, si lo hará su actualización A14P, que se espera para el año 2029. Es decir, unos cuatro después de Intel y su nodo 18A.

Recordemos que estos nodos son fundamentales para la creación de los CPUs, GPUs y cualquier chip complejo de los próximos años. Os mantendremos informados.