Toshiba Memory Corporation, líder mundial en fabricación de soluciones de memoria flash de alto rendimiento, ha celebrado la creación de la primera instalación de fabricación de semiconductores K1, en Kitakami, prefectura de Iwate, Japón. Esta fábrica estará finalizada en el otoño de 2019 y será una de las operaciones de fabricación de memoria flash 3D más avanzadas del mundo.
Toshiba Memory está liderando el camino a seguir con los avances en su tecnología BiCS flash, su memoria flash 3D patentada y que es la más avanzada del mercado. La demanda de memoria flash 3D está aumentando significativamente por la creciente demanda de servidores, centros de datos y smartphones empresariales. La nueva instalación de Toshiba hará una contribución importante a mejorar la disponibilidad a nivel mundial de este recurso tan valioso.
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Las nuevas instalaciones serán las más grandes de Toshiba y las más avanzadas. Se construirá con una estructura de aislamiento sísmico que le permitirá absorber los temblores de los terremotos, y reducirá las cargas ambientales mediante el despliegue de las instalaciones de fabricación de ahorro de energía más recientes. También introducirá un sistema de producción avanzado que usa inteligencia artificial para impulsar la productividad.
[irp]Toshiba Memory espera continuar sus inversiones en empresas conjuntas en las nuevas instalaciones en base a las conversaciones en curso con Western Digital Corporation. Toshiba Memory continuará cultivando activamente las iniciativas destinadas a fortalecer la competitividad, incluidas las inversiones de capital oportunas y la I + D en línea con las tendencias del mercado. La compañía también contribuirá al desarrollo de la economía regional de la prefectura de Iwata.
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